製品詳細
現像液、剥離液
レジスト剥離液(アミン/溶剤系・溶剤系・
アミン/溶剤/水系・有機アルカリ系)Pure Clean MC series
ポジレジスト、ネガレジスト、ドライフィルムレジストの剥離が可能な
薬液を取り揃えています。
アミンと溶剤を混合した系統の剥離液、および溶剤系統の剥離液、
アミンと溶剤と水を混合した系統の剥離液、
有機アルカリ系統の剥離液を取り揃えています。
キーワード:レジスト剥離、残渣除去、リフトオフ、非水系、含水系、非危険物、NMP非含有、NMPフリー
製品の特長
- 金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。
- 低温から高温での処理が可能です。
- いずれのレジスト剥離液もNMP非含有です。