製品詳細
各膜エッチング液
Cuシード層エッチング液Pure Etch C203・C218
Cuめっき/Cuシード構造に対して、Cuめっきで形成した配線やバンプへのダメージが少なく、
Cuシード層をエッチングします。
成膜方法や膜構造によりエッチング性能が変化するため、
詳しくはお問い合わせください。
キーワード:ウェットエッチング、銅、めっき、シード層、選択セミアディティブ法
製品の特長
- Cuめっきの細りが少ないです。
- Cuの表面荒れが少ないです。
- さまざまなシード層に適用可能です。(無電解銅めっき~スパッタ銅)
- Dip方式、Spray方式、Spin方式と多様な方式に対応しています。